发明授权
CN1956777B 微通道装置中修补的均匀涂层
失效 - 权利终止
- 专利标题: 微通道装置中修补的均匀涂层
- 专利标题(英): Tailored and uniform coatings in microchannel apparatus
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申请号: CN200580016106.X申请日: 2005-03-23
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公开(公告)号: CN1956777B公开(公告)日: 2011-06-08
- 发明人: A·L·同克维齐 , B·L·杨 , T·马扎内克 , F·P·戴利 , S·P·费茨杰拉尔德 , R·阿罗拉 , 邱东明 , 杨斌 , S·T·佩里 , K·贾罗斯 , P·W·尼格尔 , D·J·赫斯 , R·塔哈 , R·隆 , J·马可 , T·尤斯查克 , J·J·拉姆勒 , M·马齐安多
- 申请人: 维罗西股份有限公司
- 申请人地址: 美国俄亥俄州
- 专利权人: 维罗西股份有限公司
- 当前专利权人: 维罗西股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国俄亥俄州
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 郭辉
- 优先权: 60/556,014 2004.03.23 US
- 国际申请: PCT/US2005/010045 2005.03.23
- 国际公布: WO2005/094982 EN 2005.10.13
- 进入国家日期: 2006-11-20
- 主分类号: B01J19/00
- IPC分类号: B01J19/00 ; C23C16/04 ; B01J37/02 ; B01J35/04
摘要:
对微通道装置中的内部微通道进行涂敷。在装置组装或制造后在内部微通道上施涂这些均匀的涂层。使在微通道长度、弯角和/或微通道阵列的全部微通道上的涂层均匀。还描述了修整在微通道施加修补基面涂层的技术。
公开/授权文献
- CN1956777A 微通道装置中修补的均匀涂层 公开/授权日:2007-05-02