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发明授权
CN1930520B 掩模制作支援方法、掩模版提供方法、掩模版供取系统 有权

  • 专利标题： 掩模制作支援方法、掩模版提供方法、掩模版供取系统
  • 专利标题（英）： Method for supporting mask manufacture, method for providing mask blank and mask blank dealing system
  • 申请号： CN200580007570.2
    申请日： 2005-03-07
  • 公开(公告)号： CN1930520B
    公开(公告)日： 2010-12-29
  • 发明人: 石田宏之 , 相山民也 , 丸山光一
  • 申请人： HOYA株式会社
  • 申请人地址： 日本东京都
  • 专利权人： HOYA株式会社
  • 当前专利权人： HOYA株式会社
  • 当前专利权人地址： 日本东京都
  • 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
  • 代理商 杜日新
  • 优先权： 60/551,057 2004.03.09 US
  • 国际申请： PCT/JP2005/003901 2005.03.07
  • 国际公布： WO2005/085951 JA 2005.09.15
  • 进入国家日期： 2006-09-08
  • 主分类号： G03F1/08
  • IPC分类号： G03F1/08 ;  H01L21/027
掩模制作支援方法、掩模版提供方法、掩模版供取系统
摘要：
在基板上形成至少包括构成复制图案的薄膜在内的多个膜的掩模版，在对掩模版的抗蚀剂膜，按照图案数据形成图案时，对多个膜中的每个分别取得用于与图案进行比照的膜信息。
摘要（英）：

A mask blank is provided by forming a plurality of films, including at least a thin film to be a transfer pattern, on a board. At the time of patterning a resist film of the mask blank according to pattern data, film information to check with a pattern is obtained for each of a plurality of the films.

公开/授权文献
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