知搜-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明授权
CN1863887B 根据双点技术的可粘结内衬用可交联基底层 失效 - 权利终止

  • 专利标题： 根据双点技术的可粘结内衬用可交联基底层
  • 专利标题（英）： Cross-linkable base layer for interlinings applied in a double-dot method
  • 申请号： CN200480029561.9
    申请日： 2004-08-16
  • 公开(公告)号： CN1863887B
    公开(公告)日： 2010-04-28
  • 发明人: U·西蒙 , A·保利克
  • 申请人： 德古萨公司
  • 申请人地址： 德国杜塞尔多夫
  • 专利权人： 德古萨公司
  • 当前专利权人： 德古萨公司
  • 当前专利权人地址： 德国杜塞尔多夫
  • 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
  • 代理商 刘维升; 李连涛
  • 优先权： 10347628.8 2003.10.09 DE
  • 国际申请： PCT/EP2004/051804 2004.08.16
  • 国际公布： WO2005/035685 DE 2005.04.21
  • 进入国家日期： 2006-04-10
  • 主分类号： C09J177/00
  • IPC分类号： C09J177/00 ;  A41D27/06 ;  D06M17/04 ;  D06M23/16
根据双点技术的可粘结内衬用可交联基底层
摘要：
具有涂覆和/或层压片状结构的双点的内衬，其中上点和下点基于胺-封闭的可交联共聚酰胺且该下点还包括交联剂和丙烯酸分散体和/或PUR分散体。
摘要（英）：

The invention relates to an interlining comprising double dots for the coating and/or laminating of surface structures. Said interlining is characterised in that the top dot and base dot are based onan amine-terminated, cross-linkable copolyamide and that the base dot in addition contains a cross-linking agent and an acrylic and/or PUR dispersion.

公开/授权文献
0/0