发明授权
- 专利标题： 青霉烷晶体及其制备方法
- 专利标题（英）： Penam crystal and process for producing the same
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申请号： CN200480029286.0申请日： 2004-10-08
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公开(公告)号： CN1863808B公开(公告)日： 2013-06-05
- 发明人: 德丸祥久 , 岛林昭裕
- 申请人： 大塚化学株式会社 , 大鹏药品工业株式会社
- 申请人地址： 日本大阪
- 专利权人： 大塚化学株式会社,大鹏药品工业株式会社
- 当前专利权人： 大塚化学株式会社
- 当前专利权人地址： 日本大阪
- 代理机构： 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 杨青; 樊卫民
- 优先权： 352723/2003 2003.10.10 JP
- 国际申请： PCT/JP2004/015299 2004.10.08
- 国际公布： WO2005/035538 JA 2005.04.21
- 进入国家日期： 2006-04-06
- 主分类号： C07D499/00
- IPC分类号： C07D499/00
摘要：
本发明提供新的2α-甲基-2β-[(1，2，3-三唑-1-基)甲基]青霉烷-3α-羧酸二苯甲基酯(TMPB)-丙酮晶体用于制备2α-甲基-2β-[(1，2，3-三唑-1-基)甲基]青霉烷-3α-羧酸1，1-二氧化物二苯甲基酯(TAZB)；一种制备TMPB-丙酮晶体的方法，包括下列步骤：(A)浓缩含TMPB的有机溶剂溶液；(B)将所得浓缩物溶解在丙酮中；以及(C)从由此获得的丙酮溶液中析出TMPB-丙酮晶体；以及一种制备TAZB的方法，包括TMPB-丙酮晶体与氧化剂反应的步骤。
公开/授权文献
- CN1863808A 青霉烷晶体及其制备方法 公开/授权日：2006-11-15
