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发明授权
CN1816243B 离子源设备和方法 失效 - 权利终止

离子源设备和方法
摘要：
本发明涉及一种可改进回旋加速器中的离子源寿命和性能的方法和设备。根据一个实施例，本发明包括用于维持其中的等离子体放电的离子源管道(300)。所述离子源管道(300)包括沿所述离子源管道(300)侧面的狭缝开口(310)，其中所述狭缝开口(310)具有小于0.29毫米的宽度。所述离子源管道(300)还包括所述离子源管道(300)端部中的端部开口(314)。所述端部开口(314)小于所述离子源管道(300)的内径且自所述离子源管道(300)的中心轴线(316)朝向所述狭缝开口(310)移动0-1.5毫米。所述等离子体柱相对于所述狭缝开口(310)移动0.2至0.5毫米。所述离子源管道(300)包括适于所述等离子体放电的空腔(312)。本发明还涉及一种用于制造离子源管道(300)的方法。
摘要（英）：

An ion source tube (300) for sustaining a plasma discharge therein. The ion source tube (300) comprises a slit opening (310) along a side of the ion source tube (300), wherein the slit opening (310) has a width less than 0.29 mm. The ion source tube (300) also comprises an end opening (314) in an end of the ion source tube (300). The end opening (314) is smaller than an inner diameter of the ion source tube (300) and is displaced by 0-1.5 mm from a central axis (316) of the ion source tube (300) toward the slit opening (310). The plasma column is displaced 0.2 to 0.5 mm relative the slit opening (310). The ion source tube (300) comprises a cavity (312) that accommodates the plasma discharge. The invention also relates to a method for making an ion source tube (300).

公开/授权文献
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