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发明授权
CN1796008B 基板处理装置及其处理方法 有权 转让

基板处理装置及其处理方法
摘要：
本发明涉及一种基板处理装置，其包括：装载部，用于装载形成有物质膜的基板；干冰供给部，供给干冰粒子或二氧化碳；喷射处理部，包括一个以上的喷管，向上述基板上喷射由上述干冰供给部所提供的干冰粒子，或将二氧化碳固化后喷射到基板上，以对物质膜进行初步表面处理；表面处理部，对上述经过初步表面处理的物质膜进行选择性的去除。本发明使用不留残屑的干冰粒子，对物质膜进行改质或部分去除，并通过清洗或蚀刻等表面处理，去除经改质的物质膜，以此可缩短物质膜去除所需工时。
摘要（英）：

To provide a substrate processing unit that can quickly and easily remove physical films and a substrate processing method therefor. This substrate processing unit comprises a loading portion for loading a substrate formed with physical films, a dry ice supply portion for providing dry ice particles or carbonic anhydride, a spray portion for spraying the dry ice particles supplied from the dry ice supply portion via one or more nozzles or solidifying the carbonic anhydride and spraying it onto the substrate for primary surface treatment of the physical films and a surface treatment portion for selectively removing the physical films subjected to primary surface treatment.

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