发明授权
CN1596035B 一种硅微型驻极体声传感器储电膜的化学表面修正方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种硅微型驻极体声传感器储电膜的化学表面修正方法
- 专利标题(英): An amendment process for chemical surface of silicon minisize electret acoustic sensor electricity storage membrane
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申请号: CN200410025435.8申请日: 2004-06-24
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公开(公告)号: CN1596035B公开(公告)日: 2010-05-12
- 发明人: 夏钟福 , 沈绍群 , 李军 , 王丽
- 申请人: 同济大学 , 复旦大学 , 深圳市豪恩电声科技有限公司
- 申请人地址: 上海市四平路1239号
- 专利权人: 同济大学,复旦大学,深圳市豪恩电声科技有限公司
- 当前专利权人: 同济大学,复旦大学,深圳市豪恩声学股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市四平路1239号
- 代理机构: 上海正旦专利代理有限公司
- 代理商 陆飞; 沈云
- 主分类号: H04R31/00
- IPC分类号: H04R31/00 ; H01L21/306
摘要:
本发明为一种硅微型驻极体声传感器储电膜的化学表面修饰方法。它利用带抽气阀门的玻璃容器,其底部放置试剂HMDS或DCDMS,上面放置待处理的含SiO2或Si3N4/SiO2驻极体薄膜的Si片,在试剂的纯饱和蒸汽下,进行气相反应,避免水或其它活性物质对薄膜表面的污染,本发明方法可以明显改善SiO2、Si3N4/SiO2的驻极态,确保电荷储存的稳定性。
公开/授权文献
- CN1596035A 一种硅微型驻极体声传感器储电膜的化学表面修正工艺 公开/授权日:2005-03-16