一种硅微型驻极体声传感器储电膜的化学表面修正方法
摘要:
本发明为一种硅微型驻极体声传感器储电膜的化学表面修饰方法。它利用带抽气阀门的玻璃容器,其底部放置试剂HMDS或DCDMS,上面放置待处理的含SiO2或Si3N4/SiO2驻极体薄膜的Si片,在试剂的纯饱和蒸汽下,进行气相反应,避免水或其它活性物质对薄膜表面的污染,本发明方法可以明显改善SiO2、Si3N4/SiO2的驻极态,确保电荷储存的稳定性。
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