Invention Publication
CN1578847A 真空成膜装置及真空成膜方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 真空成膜装置及真空成膜方法
- Patent Title (English): Device and method for vacuum film formation
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Application No.: CN02821406.4Application Date: 2002-11-21
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Publication No.: CN1578847APublication Date: 2005-02-09
- Inventor: 宇津木功二 , 山本博规 , 宫地麻里子 , 三浦环 , 森满博 , 坂内裕 , 山崎伊纪子
- Applicant: 日本电气株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 日本电气株式会社
- Current Assignee: 日本电气株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 李香兰
- Priority: 361709/2001 2001.11.27 JP
- International Application: PCT/JP2002/012210 2002.11.21
- International Announcement: WO2003/046246 JA 2003.06.05
- Date entered country: 2004-04-27
- Main IPC: C23C14/04
- IPC: C23C14/04 ; C23C14/24 ; C23C14/56 ; H01M4/04
Abstract:
本发明的真空成膜装置使用于将来自蒸发源(6a、6b)的蒸发物质在柔性基板(1)的既定位置成膜的场合。在真空中使用辊(2a、2b、3a、3c)使柔性基板(1)行走的同时，通过开闭器(8a、8b)的开闭来控制经由遮蔽部件(9a、9b)的开口部的蒸发物质的移动。在柔性基板(1)上控制性高地形成具有既定形状图案的薄膜。由此提供将来自蒸发源(6a、6b)的蒸发物质在柔性基板(1)的既定位置成膜时使用的真空成膜装置。
Public/Granted literature
- CN1332060C 真空成膜装置及真空成膜方法 Public/Granted day:2007-08-15
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IPC分类:
