Invention Publication
CN1555317A 耐光性优异的记录介质及其制造方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 耐光性优异的记录介质及其制造方法
- Patent Title (English): Recording medium excellent in light-resistance and method for production thereof
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Application No.: CN02818273.1Application Date: 2002-07-18
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Publication No.: CN1555317APublication Date: 2004-12-15
- Inventor: 石田忠 , 楠本征也 , 富田嘉彦 , 伊藤壮太 , 大西弘幸 , 半村昌弘
- Applicant: 三井化学株式会社 , 精工爱普生株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 三井化学株式会社,精工爱普生株式会社
- Current Assignee: 三井化学株式会社,精工爱普生株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 赵苏林; 庞立志
- Priority: 217544/2001 2001.07.18 JP
- International Application: PCT/JP2002/007303 2002.07.18
- International Announcement: WO2003/008200 JA 2003.01.30
- Date entered country: 2004-03-18
- Main IPC: B41M5/00
- IPC: B41M5/00

Abstract:
喷墨记录用记录介质,它包含支持体和在支持体上形成的至少一个包含阳离子有机颗粒的层,其特征在于阳离子有机颗粒包含共聚物,该共聚物的玻璃化转变温度为70℃~130℃并且包含(A)0.1~10重量%带有位阻胺型官能团的单体、(B)0.1~10重量%带有苯并三唑型官能团的单体,和(C)80~99.8重量%选自苯乙烯和丙烯酸类单体的单体;以及该记录介质的制备方法。前述记录介质所提供的喷墨记录用记录片材具有优异油墨吸收能力、着色密度、耐水性、耐光性和耐黄变性以及表面强度。
Public/Granted literature
- CN1311987C 耐光性优异的记录介质及其制造方法 Public/Granted day:2007-04-25
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