发明公开
CN1543591A 用于光刻胶的感光树脂组合物
失效 - 权利终止
- 专利标题: 用于光刻胶的感光树脂组合物
- 专利标题(英): Photosensitive resin composition for photoresist
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申请号: CN02816205.6申请日: 2002-08-20
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公开(公告)号: CN1543591A公开(公告)日: 2004-11-03
- 发明人: 金柄郁 , 赵俊衍 , 权京一 , 朴洙晶 , 俞载元
- 申请人: 东进瑟弥侃株式会社
- 申请人地址: 大韩民国仁川市西区
- 专利权人: 东进瑟弥侃株式会社
- 当前专利权人: 东进瑟弥侃株式会社
- 当前专利权人地址: 大韩民国仁川市西区
- 代理机构: 北京德琦知识产权代理有限公司
- 代理商 王琦; 宋志强
- 优先权: 2001/50089 2001.08.20 KR
- 国际申请: PCT/KR2002/001574 2002.08.20
- 国际公布: WO2003/017001 EN 2003.02.27
- 进入国家日期: 2004-02-19
- 主分类号: G03F7/023
- IPC分类号: G03F7/023
摘要:
本发明涉及一种用作光刻胶的感光树脂组合物,特别涉及一种用于光刻胶的感光树脂组合物,该组合物包括:通过选择使用特定的化合物或控制未反应单体的比例以获得的丙烯酸酯共聚物,和1,2-二叠氮醌化物。该组合物在几方面性能优异,如:介电特性、平滑度、透明性、显影性能、残膜率、耐化学品性和耐热性,以及灵敏度和分辨率。特别是它促进夹层电介质中的图案易于形成,此外,由于甚至在制为厚膜时仍具有优异的透射率,它可在LCD制造过程中用作光刻胶。
公开/授权文献
- CN1261822C 用于光刻胶的感光树脂组合物 公开/授权日:2006-06-28
IPC分类: