Invention Publication
CN1474742A 多层结构及多层结构的制作方法
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- Patent Title: 多层结构及多层结构的制作方法
- Patent Title (English): Multi-layered structures and method for manufacturing multi-layered structures
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Application No.: CN01818989.XApplication Date: 2001-09-10
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Publication No.: CN1474742APublication Date: 2004-02-11
- Inventor: 罗基·R·阿诺德 , 约翰·扎尔加尼斯 , 史蒂夫·远山
- Applicant: 电子设备屏蔽公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚
- Assignee: 电子设备屏蔽公司
- Current Assignee: 电子设备屏蔽公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 蹇炜
- Priority: 60/233,259 2000.09.18 US
- International Application: PCT/US2001/28718 2001.09.10
- International Announcement: WO2002/24431 EN 2002.03.28
- Date entered country: 2003-05-16
- Main IPC: B29C45/14
- IPC: B29C45/14 ; B29C45/16 ; B29C70/70
Abstract:
多层型模和制作多层型模的方法。一层金属化层(40)可沉积在基片(38)的至少一面上。基片(38)可形变，然后金属层(40)可沉积到基片(38)上。或者，注塑型模树脂(43)可沉积在基片(38)和/或金属层(40)上。
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