• 专利标题: 淀积的薄膜以及它们在分离层和牺牲层应用中的使用
  • 专利标题(英): Deposited thin film and their use in separation and sarcrificial layer applications
  • 申请号: CN01808233.5
    申请日: 2001-04-17
  • 公开(公告)号: CN1427749A
    公开(公告)日: 2003-07-02
  • 发明人: S·J·福纳施A·K·凯尔肯辈常勋D·海斯南旭俊张奎焕李永喆
  • 申请人: 宾夕法尼亚州研究基金会
  • 申请人地址: 美国宾夕法尼亚州
  • 专利权人: 宾夕法尼亚州研究基金会
  • 当前专利权人: 宾夕法尼亚州研究基金会
  • 当前专利权人地址: 美国宾夕法尼亚州
  • 代理机构: 北京市中咨律师事务所
  • 代理商 于静; 李峥
  • 优先权: 60/197,548 2000.04.17 US; 60/201,937 2000.05.05 US; 09/580,105 2000.05.30 US; 60/208,197 2000.05.31 US; 60/215,538 2000.06.30 US; 60/231,626 2000.09.11 US; 60/235,794 2000.09.27 US; 09/739,940 2000.12.19 US; 60/268,208 2001.02.12 US
  • 国际申请: PCT/US2001/12281 2001.04.17
  • 国际公布: WO2001/80286 EN 2001.10.25
  • 进入国家日期: 2002-10-17
  • 主分类号: B05D5/12
  • IPC分类号: B05D5/12
淀积的薄膜以及它们在分离层和牺牲层应用中的使用
摘要:
本发明使用大表面积体积比材料层用于分离、释放层和牺牲层材料应用。本发明概述了材料概念、应用设计、以及制造方法。使用柱形/孔隙网络材料作为大表面积体积比材料层的一个例子介绍了本发明。在介绍的多个具体应用,优选在母基片的叠层上形成结构,然后使用本发明分离方案的分离层材料法将该叠层与母基片分离。本发明具有极好的释放层应用。在多个应用中,本发明的方法可以用于独特地形成腔体、沟槽、空气隙、以及各种基片上或内的相关结构。此外,可以并且优选将叠层分离方案与形成腔体的方案结合。
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