• 专利标题: 清洗过滤室内的过滤器元件的方法及采用该方法的过滤器
  • 专利标题(英): Method for the cleaning of a filter element in a filtering chamber and a filter carrying out the method
  • 申请号: CN02826768.0
    申请日: 2002-11-28
  • 公开(公告)号: CN1277595C
    公开(公告)日: 2006-10-04
  • 发明人: 马科·坎加斯尼米图莫·科伊沃拉
  • 申请人: 帕克·汉尼芬公司
  • 申请人地址: 芬兰乌尔亚拉
  • 专利权人: 帕克·汉尼芬公司
  • 当前专利权人: 帕克·汉尼芬公司
  • 当前专利权人地址: 芬兰乌尔亚拉
  • 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
  • 代理商 李晓舒; 魏晓刚
  • 优先权: 20012334 2001.11.29 FI
  • 国际申请: PCT/FI2002/000959 2002.11.28
  • 国际公布: WO2003/045528 EN 2003.06.05
  • 进入国家日期: 2004-07-05
  • 主分类号: B01D29/66
  • IPC分类号: B01D29/66
清洗过滤室内的过滤器元件的方法及采用该方法的过滤器
摘要:
本发明涉及一种清洗位于过滤室(10,11)内的过滤器元件(9)的方法及采用该方法的过滤器。过滤器包括通向过滤室入口侧(10)的入口(4)、从过滤室出口侧(11)开始的出口(6)、以及流动通道(13),该流动通道优选地将过滤室入口侧连接到大气压上,并通过流动通道可以在过滤器元件不同侧之间产生压差,以便产生去掉元件上累积的固态物质的液流脉动。根据本发明,过滤室的入口侧(10)在第一步骤中连接到低压下的受限制的缓冲室(14),各腔室之间的压力平衡产生一个清洗过滤器元件(9)的液流脉动,此后,缓冲室可以连接到大气压上。在清洗过滤器元件过程中的这种两步骤压力降允许元件用在高压液压系统中,而不会使元件遭遇损坏的风险。
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