发明授权
CN1238170C 薄膜制造用剥离膜及其制造方法及电子部件用薄膜的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 薄膜制造用剥离膜及其制造方法及电子部件用薄膜的制造方法
- 专利标题(英): Stripping film for producing thin film and method manufacturing thereof and method for producing thin film for electronic component
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申请号: CN02804825.3申请日: 2002-02-13
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公开(公告)号: CN1238170C公开(公告)日: 2006-01-25
- 发明人: 饭田修治 , 宫原裕之 , 川崎薰
- 申请人: TDK股份有限公司
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: TDK股份有限公司
- 当前专利权人: TDK股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 胡烨
- 优先权: 37948/01 2001.02.15 JP
- 国际申请: PCT/JP2002/001210 2002.02.13
- 国际公布: WO2002/064338 JA 2002.08.22
- 进入国家日期: 2003-08-11
- 主分类号: B28B1/30
- IPC分类号: B28B1/30 ; B32B27/36 ; C08J7/04 ; B05D7/04
摘要:
本发明涉及的薄膜制造用剥离膜的制造方法是,在基底膜(2)上涂布含有机硅树脂的涂布液(3a)之后,使该涂布液(3a)干燥,在上述基底膜上形成上述有机硅树脂的剥离层(3),然后将该已形成了剥离层(3)的基底膜(2)卷绕成卷筒状,制得用于制造电子部件用薄膜的剥离膜(1)的方法,基底膜(2)的厚度在5μm以上30μm不到时,一边对上述已形成了剥离层的基底膜(2)施加对应于每100mm的宽度3牛顿以上17牛顿以下的张力,一边卷绕该基底膜(2),这样能够防止卷绕散开及基底膜(2)的拉长,同时能够确保剥离层(3)的表面的平整性。
公开/授权文献
- CN1491148A 薄膜制造用剥离膜及其制造方法及电子部件用薄膜的制造方法 公开/授权日:2004-04-21