• 专利标题: 多晶硅、其生产方法及生产装置
  • 专利标题(英): Polycrystalline silicon, process and apparatus for producing the same
  • 申请号: CN01801220.5
    申请日: 2001-05-09
  • 公开(公告)号: CN1224574C
    公开(公告)日: 2005-10-26
  • 发明人: 若松智小田开行
  • 申请人: 德山株式会社
  • 申请人地址: 日本山口
  • 专利权人: 德山株式会社
  • 当前专利权人: 德山株式会社
  • 当前专利权人地址: 日本山口
  • 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
  • 代理商 陈昕
  • 优先权: 139023/00 2000.05.11 JP
  • 国际申请: PCT/JP2001/003865 2001.05.09
  • 国际公布: WO2001/085613 JA 2001.11.15
  • 进入国家日期: 2002-01-10
  • 主分类号: C01B33/02
  • IPC分类号: C01B33/02
多晶硅、其生产方法及生产装置
摘要:
内部具有气泡、表观密度为2.20g/cm3以下的带气泡多晶硅。该硅在破碎时微细粒子的发生非常少,而且可容易粉碎。这样的硅通过在氢的存在下,使含氢熔融的硅的液滴在0.2~3秒的时间内自然落下,使之冷却到液滴中封闭有氢气泡的状态而制得。这样的硅在具有以下结构的装置内制得,即在筒状容器中进行硅的析出·熔融、氯硅烷类的供给管被插到筒状容器内的硅熔融区,在筒状容器与氯硅烷类的供给管的间隙中供给密封气体。
公开/授权文献
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