Invention Publication
- Patent Title: 一种输能窗及输能窗的制作方法
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Application No.: CN202510065603.8Application Date: 2025-01-16
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Publication No.: CN119480583APublication Date: 2025-02-18
- Inventor: 吴诗昊 , 张亦弛 , 曾旭
- Applicant: 北京真空电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十二研究所)
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路13号
- Assignee: 北京真空电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十二研究所)
- Current Assignee: 北京真空电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十二研究所)
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路13号
- Agency: 北京正理专利代理有限公司
- Agent 张雪梅; 王喆
- Main IPC: H01J23/36
- IPC: H01J23/36 ; H01J23/18 ; H01J9/00 ; H01P1/08 ; H01P11/00 ; H01P7/00
Abstract:
本发明实施方式公开了一种输能窗及输能窗的制作方法，所述输能窗包括两块介质基板，以及夹设固定于两块介质基板间的电磁共振单元；所述电磁共振单元包括若干呈阵列排布的谐振单元；所述谐振单元包括具有第一开口的第一金属圆环，以及位于第一金属圆环内的具有第二开口的第二金属圆环。本发明有效解决了现有输能窗在设计难度大、工艺复杂和成本高等方面的问题，能够在不增加输能窗部件体积的情况下显著拓展工作带宽。
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