Invention Publication
CN119452308A 辐射源
审中-公开
- Patent Title: 辐射源
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Application No.: CN202380048452.4Application Date: 2023-07-18
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Publication No.: CN119452308APublication Date: 2025-02-14
- Inventor: S·爱德华
- Applicant: ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰
- Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 王益
- Priority: 22189424.9 20220809 EP
- International Application: PCT/EP2023/069855 2023.07.18
- International Announcement: WO2024/033025 EN 2024.02.15
- Date entered country: 2024-12-19
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20 ; G01N21/95 ; G01N21/956 ; G02F1/35 ; H05G2/00

Abstract:
一种用于确定第一辐射的至少一个特性和/或第二辐射的至少一个特性的束量测装置,所述第二辐射是在接收到所述第一辐射的第一部分时经由第一非线性过程被产生的;所述束量测装置包括:量测装置非线性介质,其被配置为接收所述第一辐射的第二部分,并由此经由第二非线性过程产生第三辐射;至少一个检测器,其被配置为测量所述第三辐射的至少一个特性;以及处理单元,其能够操作以基于所述第三辐射的所述至少一个特性确定所述第一辐射的至少一个特性和/或所述第二辐射的至少一个特性。
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IPC分类: