Invention Publication
- Patent Title: 用于生成二维光或激光束、线或图案的系统和方法
-
Application No.: CN202311093344.7Application Date: 2023-08-29
-
Publication No.: CN119200245APublication Date: 2024-12-27
- Inventor: 杨颜峰 , 于光龙 , 姚俊杰 , 贾旭 , 李俊梅
- Applicant: 福州高意光学有限公司
- Applicant Address: 福建省福州市晋安区福新东路253号中航技工业小区
- Assignee: 福州高意光学有限公司
- Current Assignee: 福州高意光学有限公司
- Current Assignee Address: 福建省福州市晋安区福新东路253号中航技工业小区
- Agency: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- Agent 汪晶晶
- Priority: 18/214,294 20230626 US
- Main IPC: G02B27/09
- IPC: G02B27/09 ; G02B27/42

Abstract:
一种用于生成二维光或激光束、线或图案的系统和方法,包括衍射光学元件(DOE),用于改变或修改通过DOE的输入光束或激光束的强度分布。聚焦透镜接收离开DOE的经改变或修改的光束或激光束并且对经改变或修改的光束或激光束进行聚焦。双焦中继光学器件接收离开聚焦透镜的经聚焦的光束或激光束,并且放大、改变或调整经聚焦的光束或激光束的至少一个长度或维度或形状。最后,成像光学器件接收、会聚并输出离开双焦中继光学器件的经放大、改变或调整的经聚焦的光束或激光束作为输出光束或激光束。
Information query