- 专利标题： 聚乙烯微孔膜、制备所述微孔膜的方法以及包括所述微孔膜的隔膜
-
申请号： CN202410569935.5申请日： 2024-05-09
-
公开(公告)号： CN118956032A公开(公告)日： 2024-11-15
- 发明人: 郑仁和
- 申请人： SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
- 申请人地址： 韩国首尔
- 专利权人： SK新技术株式会社,爱思开高新信息电子材料株式会社
- 当前专利权人： SK新技术株式会社,爱思开高新信息电子材料株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国首尔
- 代理机构： 北京路浩知识产权代理有限公司 11002专利代理师安玉蒋洪之
- 优先权： 10-2023-0062318 2023.05.15 KR
- 主分类号： C08L23/06
- IPC分类号： C08L23/06 ; C08J9/28 ; H01M50/417 ; H01M50/403 ; H01M50/489 ; H01M50/491 ; H01M10/04 ; H01M10/052
摘要：
本发明涉及一种聚乙烯微孔膜、制备所述微孔膜的方法以及包括所述微孔膜的隔膜。根据一个实施方案，提供一种聚乙烯微孔膜，所述聚乙烯微孔膜的厚度为3‑30μm，穿刺强度为0.15N/μm以上，在121℃下放置1小时后测量的横向收缩率为5％以下，由下式1表示的PS指数为110以上。[式1]PS指数＝[透气度(×10‑5达西)×孔隙率(％)]÷[在121℃下的横向收缩率(％)]。
