发明公开
- 专利标题： 一种高分辨率的负性光刻胶及其制备方法与应用
-
申请号： CN202410958667.6申请日： 2024-07-17
-
公开(公告)号： CN118915389A公开(公告)日： 2024-11-08
- 发明人: 陈育 , 陶青松
- 申请人： 盐城艾肯科技有限公司
- 申请人地址： 江苏省盐城市东台市南郊中小企业园
- 专利权人： 盐城艾肯科技有限公司
- 当前专利权人： 盐城艾肯科技有限公司
- 当前专利权人地址： 江苏省盐城市东台市南郊中小企业园
- 代理机构： 上海新泊利知识产权代理事务所
- 代理商 罗开艳
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; H05K3/06
摘要：
本发明提供一种高分辨率的负性光刻胶，所述负性光刻胶包含以下重量份的原料：1～90份感光树脂、1～99份改性环氧低聚物、3～20份光引发剂、0.5～10份光产酸剂、300～400份有机溶剂、0.5～10份交联剂；其中，所述改性环氧低聚物为琥珀酰亚胺改性环氧低聚物。本发明提供的负性光刻胶是一种具有优良耐热性能和高分辨率的负性光刻胶，固化效率高且深度固化，适于集成电路设计和半导体等领域应用。
IPC分类:
