Invention Publication
CN118647892A 测距装置和测距方法
审中-实审
- Patent Title: 测距装置和测距方法
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Application No.: CN202380019722.9Application Date: 2023-01-26
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Publication No.: CN118647892APublication Date: 2024-09-13
- Inventor: 西智裕 , 横川昌俊 , 樱井裕大
- Applicant: 索尼集团公司
- Applicant Address: 日本
- Assignee: 索尼集团公司
- Current Assignee: 索尼集团公司
- Current Assignee Address: 日本
- Agency: 北京集佳知识产权代理有限公司
- Agent 姜婷
- Priority: 2022-017291 20220207 JP
- International Application: PCT/JP2023/002434 2023.01.26
- International Announcement: WO2023/149335 JA 2023.08.10
- Date entered country: 2024-07-31
- Main IPC: G01S7/4863
- IPC: G01S7/4863 ; G01C3/06 ; G01S17/894 ; G01S17/14

Abstract:
本公开内容提出了能够抑制测距准确度的劣化的测距装置。根据实施方式的测距装置包括:测距单元(13,14,11),用于针对设置有至少在第一方向上布置的多个像素的每个带状区域(142),测量表示到存在于测距区域(AR)中的对象(90)的距离的深度信息,该测距区域(AR)在第一方向和与第一方向垂直的第二方向上延伸;以及计算单元(15),用于基于针对每个带状区域(142)测量的每个像素的深度信息来生成测距区域(AR)的深度图像。在第一方向上彼此相邻的带状区域(142)之间的边界的位置在第一方向上延伸并在第二方向上布置的多个像素线之间不同,并且在多个像素线中,基于夹着由在第一方向上彼此相邻的两个带状区域(142)形成的边界的两个像素之中的一个像素的像素值,计算单元(15)校正另一个像素线中的像素的像素值。
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