发明公开
- 专利标题: 一种以低熔点物质为原料实现化学合成的装置及方法
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申请号: CN202410509479.5申请日: 2024-04-26
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公开(公告)号: CN118565207A公开(公告)日: 2024-08-30
- 发明人: 杨佳 , 施洪勇 , 谈仁杰 , 邓勇 , 钱建成 , 梁悦 , 魏保宏 , 夏立新 , 徐宝强 , 杨斌 , 刘大春 , 蒋文龙 , 田阳 , 郁青春 , 李一夫 , 熊恒 , 孔令鑫 , 孔祥峰
- 申请人: 昆明理工大学
- 申请人地址: 云南省昆明市五华区一二一大街文昌路68号真空冶金国家工程研究中心
- 专利权人: 昆明理工大学
- 当前专利权人: 昆明理工大学
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市五华区一二一大街文昌路68号真空冶金国家工程研究中心
- 代理机构: 北京卓胜佰达知识产权代理有限公司
- 代理商 杨洋
- 主分类号: F27B15/00
- IPC分类号: F27B15/00 ; F27B15/02 ; F27B15/08 ; F27B15/14 ; F27B15/10 ; F27D7/06 ; C01G30/00 ; C01G21/21 ; C01G28/00 ; C01B25/08 ; C01B19/00
摘要:
本发明公开一种以低熔点物质为原料实现化学合成的装置及方法,装置包括密闭反应炉体、进料机构、加热炉床组件和抽气系统;密闭反应炉体内安装有隔热挡板组件,隔热挡板组件将密闭反应炉体内腔分隔为反应室和沉降室;进料机构包括第一进料系统和吹气进料组件;第一进料系统和吹气进料组件均安装在密闭反应炉体上,并且均与反应室连通;加热炉床组件安装在反应室内;抽气系统安装在密闭反应炉体上,并且与沉降室连通;其中,沉降室内安装有料斗,隔热挡板上设有排料间隙。本发明可以低熔点物质为原料实现化学合成,处理后的化合物直收率高、纯度高,并且能耗低、成本低、反应速率快、工艺简单、产物中混杂原料少。