Invention Publication
- Patent Title: 粒子线射束控制系统及粒子线射束控制方法
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Application No.: CN202380016103.4Application Date: 2023-05-22
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Publication No.: CN118510577APublication Date: 2024-08-16
- Inventor: 宫内敦吏 , 角谷畅一 , 塙胜词 , 福岛伸哉
- Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
- Applicant Address: 日本;
- Assignee: 株式会社东芝,东芝能源系统株式会社
- Current Assignee: 株式会社东芝,东芝能源系统株式会社
- Current Assignee Address: 日本;
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 牛玉婷
- Priority: 2023-082839 20230519 JP 2023-082839 20230519 JP
- International Application: PCT/JP2023/018913 2023.05.22
- International Announcement: WO2023/238643 JA 2023.12.14
- Date entered country: 2024-07-03
- Main IPC: A61N5/10
- IPC: A61N5/10 ; G21K1/00 ; G21K1/087 ; G21K1/093 ; G21K5/04

Abstract:
根据实施方式,粒子线射束控制系统(1)具备控制扫描电磁铁(5、6)的控制计算机(11),控制计算机(11)构成为基于由位置监视部(8)检测到的粒子线射束(P)的位置,计算粒子线射束(P)的实际的照射位置即重心位置,计算扫描电磁铁(5、6)的设计上的照射位置即光斑位置与重心位置的偏移量,基于偏移量来计算用于将重心位置校正为定光斑位置的校正值,将校正值存储于存储部(18),基于存储于存储部(18)的校正值,校正从电源(12、13)向扫描电磁铁(5、6)供给电力时的成为设计上的基准的电流值。
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