发明公开
- 专利标题: 半导体衬底精密抛光机的磨液切换装置及工作方法
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申请号: CN202410237394.6申请日: 2024-03-01
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公开(公告)号: CN118123713A公开(公告)日: 2024-06-04
- 发明人: 郭胜安 , 雷立猛 , 赖任延 , 喻明清
- 申请人: 湖南金岭机床科技集团有限公司 , 广东派勒智能纳米科技股份有限公司
- 申请人地址: 湖南省长沙市中国(湖南)自由贸易试验区长沙片区长沙经开区区块华湘路9号;
- 专利权人: 湖南金岭机床科技集团有限公司,广东派勒智能纳米科技股份有限公司
- 当前专利权人: 湖南金岭机床科技集团有限公司,广东派勒智能纳米科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市中国(湖南)自由贸易试验区长沙片区长沙经开区区块华湘路9号;
- 代理机构: 北京市中闻律师事务所
- 代理商 冯梦洪
- 主分类号: B24B55/00
- IPC分类号: B24B55/00 ; B24B41/00 ; B24B57/00
摘要:
本发明公开半导体衬底精密抛光机的磨液切换装置及工作方法,能够自动控制切换,选择不同的排出管道,采取不同的处理工艺进行集中处理,结构简单轻便,有效减少整机重量和成本。其安装在半导体衬底精密抛光机的外侧,在抛光机的液体排出管道下方;半导体衬底精密抛光机的液体排出管道在磨水切换槽的右上方,磨水切换槽通过后侧钣金固定到半导体衬底精密抛光机,底侧钣金在左边、右边各连通一个管道;磨水切换漏斗在磨水切换槽内且为一个无盖有底的长方体,下侧板设有孔;微型气缸固定在磨水切换槽上且包括:气缸、气缸杆,气缸通过气缸杆连接到磨水切换漏斗,通过气缸杆的伸缩带动磨水切换漏斗左右运动。