发明授权
- 专利标题: 一种光学纹理拓印硅胶膜片及其制备方法
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申请号: CN202410307391.5申请日: 2024-03-18
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公开(公告)号: CN118085757B公开(公告)日: 2024-08-16
- 发明人: 康宇 , 黄扬 , 黄玉兰 , 王勇
- 申请人: 深圳熠泽科技有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市光明区马田街道石围社区石围大田洋工业区C区B栋601
- 专利权人: 深圳熠泽科技有限公司
- 当前专利权人: 深圳熠泽科技有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市光明区马田街道石围社区石围大田洋工业区C区B栋601
- 代理机构: 广东粤易知识产权代理事务所
- 代理商 杨秋慧
- 主分类号: C09J7/30
- IPC分类号: C09J7/30 ; C09J183/04 ; C09J183/06 ; C09J175/14
摘要:
本发明属于光学胶技术领域,公开了一种光学纹理拓印硅胶膜片及其制备方法。所述光学纹理拓印硅胶膜片是采用特定方法制备得到的含有环氧基和乙烯基的液态MTQ硅树脂与聚硅氧烷聚氨酯预聚体作为改性剂,将其与乙烯基硅油、含氢硅油和卡斯特催化剂混合后真空除气得到混合胶料,然后加注到底部铺设光学纹理拓印模板的隧道炉中,光学纹理拓印模板的纹理朝上,胶料上面覆基膜,控制隧道炉温度为120~145℃压延固化,冷却成型得到。本发明的硅胶膜片具有显著提高的力学强度、硬度、耐高温黄变性能和与塑料基片的附着力,且透明度高,可用于塑料手机外壳光学纹理的制备,实现低厚度下的光学纹理准确拓印,具有成本低,应用性能好的优点。
公开/授权文献
- CN118085757A 一种光学纹理拓印硅胶膜片及其制备方法 公开/授权日:2024-05-28