发明公开
CN117916608A 磁微粒成像装置
审中-实审
- 专利标题: 磁微粒成像装置
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申请号: CN202180102214.8申请日: 2021-09-14
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公开(公告)号: CN117916608A公开(公告)日: 2024-04-19
- 发明人: 野村航大 , 松田哲也 , 山内一辉
- 申请人: 三菱电机株式会社
- 申请人地址: 日本
- 专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人地址: 日本
- 代理机构: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理商 金光华
- 国际申请: PCT/JP2021/033763 2021.09.14
- 国际公布: WO2023/042265 JA 2023.03.23
- 进入国家日期: 2024-03-08
- 主分类号: G01R33/12
- IPC分类号: G01R33/12 ; A61B5/0515 ; G01N27/74
摘要:
磁微粒成像装置(100)具备:保持部(1),保持被检查体(S);静磁场发生器(2),发生穿过被保持部保持的被检查体的线状的无磁场区域(FFL);交流磁场施加线圈(3A),针对无磁场区域施加交流磁场;以及测量线圈(4),用于取得无磁场区域内的磁性微粒的磁化变动作为信号。测量线圈具有与交流磁场的方向平行的轴(AX4)。在与轴的延伸方向以及无磁场区域的延伸方向分别正交的第3方向(C)上,保持部、交流磁场施加线圈以及测量线圈各自的相对位置被决定。保持部、交流磁场施加线圈以及测量线圈作为一体,相对于静磁场发生器而在第3方向(C)上相对地移动。