本发明涉及光化学降解技术领域，更具体的公开了一种光化学降解药厂污染性气体的装置及其使用方法，包括外壳组件，所述外壳组件包括装置外壳，装置外壳的内部从上至下依次开设有进气腔、反应腔、吸附腔与循环腔，装置外壳的顶部安装有端盖，端盖的底部安装有伸缩组件，端盖的顶部开设有进气口，所述进气腔内部位于伸缩组件的底部安装有隔离清洁架；本发明通过设有清洁刮板，有利于在密封板下降时清洁刮板会将二氧化钛环内壁表面形成的水珠进行清理，形成被动清理，在反应结束后伸缩组件控制密封板下降与上升移动的过程中，清洁刮板对二氧化钛环的内壁进行主动清理，使得的内壁始终保持较高的光洁度，具有较高的反应催化作用。