Invention Grant
- Patent Title: 一种基于界面密封的低渗漏贮箱及其制造方法
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Application No.: CN202311795049.6Application Date: 2023-12-25
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Publication No.: CN117754902BPublication Date: 2024-08-20
- Inventor: 屠硕 , 蔡立柱 , 赵春醒 , 李策
- Applicant: 沈阳欧施盾新材料科技有限公司
- Applicant Address: 辽宁省沈阳市沈北新区正良五路37号
- Assignee: 沈阳欧施盾新材料科技有限公司
- Current Assignee: 沈阳欧施盾新材料科技有限公司
- Current Assignee Address: 辽宁省沈阳市沈北新区正良五路37号
- Agency: 北京君慧知识产权代理事务所
- Agent 冯妙娜
- Main IPC: B29D22/00
- IPC: B29D22/00 ; C08L63/00 ; C08K7/06 ; C08K5/42 ; C08K3/34 ; C08K3/22 ; C08K9/04

Abstract:
本申请公开了一种基于界面密封的低渗漏贮箱及其制造方法,属于无内衬复合材料贮箱技术领域。该方法包括下述步骤:S10:在芯模表面贴覆脱模布或喷涂脱模剂,之后再涂覆防渗浆料形成第一防渗层;S20:将碳纤维浸渍于浸渍浆料内得到浸渍纤维;S30:将浸渍纤维缠绕在第一防渗层外侧形成第一缠绕层;S40:在第一缠绕层表面涂覆防渗浆料形成第二防渗层;S50:将浸渍纤维缠绕在第二防渗层外侧形成第二缠绕层;S60:将缠绕完成后的贮箱加热固化,即得低渗漏贮箱。该方法通过在贮箱内表面形成第一防渗层和在第一缠绕层和第二缠绕层之间增加第二防渗层,能够有效降低贮箱在低温下的变形,降低第一缠绕层和第二缠绕层中微裂纹的产生,从而防止液氢、液氧的渗漏。
Public/Granted literature
- CN117754902A 一种基于界面密封的低渗漏贮箱及其制造方法 Public/Granted day:2024-03-26
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