发明公开
CN117585410A 上料机构、上料方法
审中-实审
- 专利标题: 上料机构、上料方法
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申请号: CN202311561103.0申请日: 2023-11-21
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公开(公告)号: CN117585410A公开(公告)日: 2024-02-23
- 发明人: 王增辉 , 裴侨解 , 鲁俊杰 , 曲东升 , 查进 , 李长峰
- 申请人: 常州铭赛机器人科技股份有限公司
- 申请人地址: 江苏省常州市武进区常武中路18号常州科教城铭赛科技大厦
- 专利权人: 常州铭赛机器人科技股份有限公司
- 当前专利权人: 常州铭赛机器人科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省常州市武进区常武中路18号常州科教城铭赛科技大厦
- 代理机构: 常州至善至诚专利代理事务所
- 代理商 赵旭
- 主分类号: B65G47/14
- IPC分类号: B65G47/14 ; B65G47/26 ; B65G43/08 ; B65G47/90 ; B65G51/02
摘要:
本发明公开了一种上料机构、上料方法,上料机构包括:底座,以及y向驱动组件,所述y向驱动组件安装在所述底座上;收料组件,所述收料组件安装在所述y向驱动组件上,所述y向驱动组件能够带动所述收料组件沿y向往复移动,所述收料组件用于逐个收集半导体元件;定位组件,所述定位组件安装在所述收料组件的一侧,所述定位组件用于对所述收料组件上的半导体元件进行定位;挡料组件,所述挡料组件安装在所述收料组件的另一侧。本发明能够一次性实现若干个半导体元件的上料,有利于提高上料效率,并且能够保证若干个半导体元件之间的相对位置精度。
IPC分类: