Invention Publication
- Patent Title: 铁电器件、存储装置及电子设备
-
Application No.: CN202180099649.1Application Date: 2021-10-21
-
Publication No.: CN117561804APublication Date: 2024-02-13
- Inventor: 谭万良 , 李宇星 , 李维谷 , 蔡佳林 , 吕杭炳 , 许俊豪
- Applicant: 华为技术有限公司
- Applicant Address: 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
- Assignee: 华为技术有限公司
- Current Assignee: 华为技术有限公司
- Current Assignee Address: 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
- Agency: 北京润泽恒知识产权代理有限公司
- Agent 王洪
- International Application: PCT/CN2021/125156 2021.10.21
- International Announcement: WO2023/065195 ZH 2023.04.27
- Date entered country: 2023-12-21
- Main IPC: H10B51/00
- IPC: H10B51/00 ; H10B53/00
Abstract:
本申请提供了一种铁电器件、存储装置及电子设备，涉及存储领域，能够提高铁电器件的耐久性。该铁电器件包括顶电极、底电极以及位于顶电极和底电极之间的铁电层。铁电层包括可变价态金属氧化物和铁电材料。可变价态金属氧化物包括可变价态过渡金属氧化物和可变价态稀土金属氧化物中的至少一种。
Information query
