本发明涉及真空除气技术领域，提出了一种真空除气器的真空度调节控制系统，包括真空罐，气水分离器，所述气水分离器具有分离腔和进气接口，真空罐的顶部连通至进气接口，其中，所述分离腔具有排气接口，所述排气接口位于所述气水分离器的顶部，第一堵板和第二堵板，所述第一堵板与所述气水分离器的内壁之间形成第一通气口，所述第二堵板与所述气水分离器的内壁之间形成第二通气口，所述第一通气口和所述第二通气口分别位于所述分离腔的两侧。通过上述技术方案，解决了现有技术中的搅拌不均匀，排气程度不够的技术问题。