发明公开
- 专利标题: 可阻隔的阻隔架构设备及其制造和使用方法
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申请号: CN202310848216.2申请日: 2019-08-21
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公开(公告)号: CN117145136A公开(公告)日: 2023-12-01
- 发明人: 约翰·大维·日头
- 申请人: 约翰·大维·日头
- 申请人地址: 美国康涅狄格州
- 专利权人: 约翰·大维·日头
- 当前专利权人: 约翰·大维·日头
- 当前专利权人地址: 美国康涅狄格州
- 代理机构: 北京安信方达知识产权代理有限公司
- 代理商 孙静; 杨明钊
- 优先权: 62/720,808 2018.08.21 US
- 主分类号: E04C2/36
- IPC分类号: E04C2/36 ; E04B1/76 ; E04B1/80 ; E06B1/36
摘要:
本申请涉及可阻隔的阻隔架构设备及其制造和使用方法。披露了一种阻隔结构构件,包括:具有第一长度的第一长形框架构件;以及与该第一长形框架构件间隔开并且基本上与之平行的第二长形框架构件,该第二长形框架构件具有基本上与该第一长度相同的第二长度。该阻隔结构构件包括:使该第一框架构件与第二框架构件之间间隔开并且与这两者平行的中心长形框架构件,该中心框架构件具有基本上与该第一长度相同的第三长度;以及将该第一长形构件连结至该中心框架构件的一个表面的多个第一连接构件。该阻隔结构构件包括将该第二长形构件连结至该中心框架构件的相反表面的多个第二连接构件。该结构构件在垂直于该第一长度的方向上不提供传导热流的直接路径。
IPC分类: