Invention Grant
- Patent Title: 一种碳化硅二极管及其制造方法
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Application No.: CN202311318893.XApplication Date: 2023-10-12
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Publication No.: CN117059670BPublication Date: 2024-01-16
- Inventor: 李伟 , 高苗苗
- Applicant: 深圳市冠禹半导体有限公司
- Applicant Address: 广东省深圳市宝安区航城街道三围社区泰华梧桐工业园雨水(2A)栋3层
- Assignee: 深圳市冠禹半导体有限公司
- Current Assignee: 深圳市冠禹半导体有限公司
- Current Assignee Address: 广东省深圳市宝安区航城街道三围社区泰华梧桐工业园雨水(2A)栋3层
- Agency: 深圳市兴科达知识产权代理有限公司
- Agent 覃曼萍
- Main IPC: H01L29/861
- IPC: H01L29/861 ; H01L29/66 ; H01L29/06 ; H01L23/367 ; H01L23/373
Abstract:
本发明公开了一种碳化硅二极管及其制造方法,包括外壳,所述外壳内置有碳化硅芯片,所述碳化硅芯片包括碳化硅衬底、外延层、阴极金属、阳极金属与绝缘层,所述碳化硅衬底底部连接阴极金属,碳化硅衬底顶部连接外延层,所述外延层上预留有沟槽;所述阳极金属与第一导电引脚连接,所述阴极金属与第二导电引脚连接;所述第一导电引脚上设置有活动连通块和绝缘槽,本发明通过在碳化硅芯片中设置加速层,改变外延层的带隙和电子迁移率,可以实现更好的电子传输性能和更低的电阻,解决了热量积累会导致温度升高,温度过高会增加碳化硅二极管的功耗的问题。
Public/Granted literature
- CN117059670A 一种碳化硅二极管及其制造方法 Public/Granted day:2023-11-14
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