本发明公开了一种用于青瓷加工的全方位釉料喷涂装置，包括输送带、装置主体和中转组件：输送带的数量为两组，输送带用于输送装载有瓷器胚料的托架组件；装置主体设置在两组输送带之间，装置主体上安装有喷涂组件；中转组件安装在装置主体上，中转组件用于将其中一组输送带上的托架组件引导至喷涂工位。本发明克服了现有技术的不足，采用喷涂部件旋转的方式代替现有技术中瓷器胚料旋转喷涂的方式，使得瓷器胚料在喷涂的过程中无需采用单独的固定装置固定，能够减少釉料喷涂过程中瓷器胚料的损伤，同时无需大量传感器配合实现瓷器胚料的精准夹持，从而能够有效降低瓷器胚料喷涂的成本，具有较高的社会使用价值和应用前景。