Invention Publication
- Patent Title: 一种中熵或高熵合金熔覆层的制备方法
-
Application No.: CN202310819433.9Application Date: 2023-07-05
-
Publication No.: CN116837316APublication Date: 2023-10-03
- Inventor: 朱博 , 赵宏伟 , 张针侨 , 邹宇
- Applicant: 吉林大学
- Applicant Address: 吉林省长春市前进大街2699号
- Assignee: 吉林大学
- Current Assignee: 吉林大学
- Current Assignee Address: 吉林省长春市前进大街2699号
- Agency: 北京高沃律师事务所
- Agent 霍苗
- Main IPC: C23C4/134
- IPC: C23C4/134 ; C23C4/08

Abstract:
本发明属于合金涂层制备技术领域,具体涉及一种中熵或高熵合金熔覆层的制备方法。本发明将至少3种单质金属粉体混合,得到混合金属粉体;在基体表面布设混合金属粉体,得到混合金属粉体层;采用混合等离子体对所述混合金属粉体层进行射频等离子熔覆,得到中熵或高熵射频等离子熔覆层,所述混合等离子体包括惰性气体等离子体和水蒸气等离子体。本发明利用水蒸气等离子体辅助惰性气体等离子体,同时利用射频等离子体的高温效应不仅实现中熵或高熵射频等离子熔覆层的快速原位制备,而且在水蒸气等离子体的辅助下得到的中熵或高熵合金熔覆层具有孔隙率小、组织结构均匀、细密度高的特点。
Information query
IPC分类: