- 专利标题: 一种超大规模集成电路版图的屏蔽线生成方法
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申请号: CN202310727991.2申请日: 2023-06-19
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公开(公告)号: CN116663480B公开(公告)日: 2024-07-09
- 发明人: 孙若涵 , 张亚东 , 李起宏 , 陆涛涛
- 申请人: 北京华大九天科技股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区利泽中二路2号A座2层
- 专利权人: 北京华大九天科技股份有限公司
- 当前专利权人: 北京华大九天科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区利泽中二路2号A座2层
- 代理机构: 北京德崇智捷知识产权代理有限公司
- 代理商 王金双
- 主分类号: G06F30/392
- IPC分类号: G06F30/392 ; G06F30/394 ; G06F30/398
摘要:
一种超大规模集成电路版图的屏蔽线生成方法,包括以下步骤:读取版图布线资源;采用位图标记障碍物的方法进行版图标记;利用最短路径搜索算法,生成信号线;计算屏蔽线的中心点链,生成屏蔽线。本发明的方法是在信号线布线的过程中考虑屏蔽线添加,在满足信号线布通率以及设计规则的前提下,用屏蔽线将信号线包围在内;在路径搜索中考虑屏蔽线添加的方法,通过扩大搜索时的线宽,来避免屏蔽线与障碍物发生间距违例,保证屏蔽线的连贯性;屏蔽线生成结果对信号线的包裹更严密,提高了对信号线的保护性。
公开/授权文献
- CN116663480A 一种超大规模集成电路版图的屏蔽线生成方法 公开/授权日:2023-08-29