发明授权
CN1163634C 使用气体扩散电极的电解槽及该电解槽的配电方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 使用气体扩散电极的电解槽及该电解槽的配电方法
- 专利标题(英): Electrolytic tank using gas diffusion electrode and power distribution method for electrolytic tank
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申请号: CN00800453.6申请日: 2000-03-28
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公开(公告)号: CN1163634C公开(公告)日: 2004-08-25
- 发明人: 坂田昭博 , 齐木幸治 , 相川洋明 , 片山真二 , 山口健三
- 申请人: 东亚合成株式会社 , 三井化学株式会社 , 钟渊化学工业株式会社 , 氯工程公司
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 东亚合成株式会社,三井化学株式会社,钟渊化学工业株式会社,氯工程公司
- 当前专利权人: 东亚合成株式会社,三井化学株式会社,钟渊化学工业株式会社,氯工程公司
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 上海专利商标事务所
- 代理商 章鸣玉
- 优先权: 93440/1999 1999.03.31 JP; 93589/1999 1999.03.31 JP; 93590/1999 1999.03.31 JP; 93591/1999 1999.03.31 JP; 93592/1999 1999.03.31 JP; 93593/1999 1999.03.31 JP
- 国际申请: PCT/JP2000/001921 2000.03.28
- 国际公布: WO2000/060140 JA 2000.10.12
- 进入国家日期: 2000-11-30
- 主分类号: C25B9/10
- IPC分类号: C25B9/10 ; C25B11/03 ; C25B1/46 ; C25B1/26
摘要:
本发明是用于离子交换膜法食盐电解等的使用了氧阴极的电解槽,其中,为了能够有效地进行苛性液的供给和排出,并可有效防止苛性液的泄漏,在电解槽的外侧端部设置了通过苛性液通道与作为苛性液排出口的上部气室和作为苛性液送入口的下部气室相通的苛性室框架,以减少苛性液的泄漏。另外,通过在阴极元件的下方端部设置下部气室,防止苛性液从气体扩散电极向气室泄漏。或者使用气液透过型气体扩散电极,由与气室相通的上部气室供给氧气和水分,再由下部气室排出气体和苛性液。
公开/授权文献
- CN1297493A 使用气体扩散电极的电解槽及该电解槽的配电方法 公开/授权日:2001-05-30