本发明属于IC半导体超高洁净度清洗技术领域，具体涉及一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法，包括如下步骤：(1)抛光；(2)预清洗；(3)有机溶剂擦拭和高压水清洗；(4)第一次脱脂清洗；(5)第一次酸洗水洗；(6)N2吹干‑喷砂‑高压水清洗；(7)第二次脱脂清洗；(8)第二次酸洗水洗；(9)超声波纯水洗‑溢流‑N2吹干；(10)包装。本发明清洗方法可有效的保证工件或试片表面达到半导体高洁净度的使用要求，是一种可靠性及操作性较高的喷砂不锈钢超高洁净度清洗方法，清洗后零件可以实现在超高真空的洁净环境中的使用要求。