本申请涉及一种溅射阴极及溅射沉积组件，所述溅射阴极包括：圆柱靶材，所述圆柱靶材具有内腔；磁场组件，至少两个所述磁场组件位于所述圆柱靶材的内腔内；其中，所述磁场组件包括磁轭、第一磁体和第二磁体，所述第一磁体和所述第二磁体与所述磁轭固定连接，所述第一磁体的剩磁强度与所述第二磁体的剩磁强度不同，从而使得该磁场组件形成的磁场为非平衡磁场，并且磁力线能够延伸到磁控溅射设备的腔体内部的基材表面，提高磁控溅射设备的腔体内的等离子体的密度，进而改善沉积涂层的质量。