Invention Grant
- Patent Title: 一种隐形矫治用间接支抗装置及其使用方法
-
Application No.: CN202310036738.2Application Date: 2023-01-10
-
Publication No.: CN116098721BPublication Date: 2024-11-01
- Inventor: 陈国新 , 彭洁瑞 , 董文静 , 罗思雅 , 宋静 , 胡青 , 陈旭
- Applicant: 武汉大学
- Applicant Address: 湖北省武汉市武昌区珞珈山
- Assignee: 武汉大学
- Current Assignee: 武汉大学
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市武昌区珞珈山
- Agency: 武汉智权专利代理事务所
- Agent 唐勇
- Main IPC: A61C7/00
- IPC: A61C7/00 ; A61C7/02 ; A61C7/20 ; A61C8/00

Abstract:
本申请涉及一种隐形矫治用间接支抗装置及其使用方法,属于牙齿矫正器具技术领域。本申请的装置包括种植钉、改良式L型曲,所述改良式L型曲包括与所述种植钉固定连接的连接环,连接于所述连接环的横向连接部,所述横向连接部远离所述连接环的一端垂直连接有竖向连接部,以及与所述竖向连接部连接,且粘接于牙齿表面的曲线形部。在该装置的使用过程中,操作简便,实用性高,且能够增强对于支抗牙的固定效果,避免关闭拔牙间隙时的支抗丢失,大大提高了矫治效率。
Public/Granted literature
- CN116098721A 一种隐形矫治用间接支抗装置及其使用方法 Public/Granted day:2023-05-12
Information query