发明公开
- 专利标题: 一种基于单向自旋霍尔磁阻的磁存储器及存储器膜层
-
申请号: CN202310100123.1申请日: 2023-02-03
-
公开(公告)号: CN116096215A公开(公告)日: 2023-05-09
- 发明人: 张婕 , 聂天晓 , 李竞 , 王航天 , 谢魏然 , 孙芸 , 王梓力 , 高凡
- 申请人: 北京航空航天大学杭州创新研究院
- 申请人地址: 浙江省杭州市滨江区长河街道创慧街18号
- 专利权人: 北京航空航天大学杭州创新研究院
- 当前专利权人: 杭州市北京航空航天大学国际创新研究院(北京航空航天大学国际创新学院)
- 当前专利权人地址: 311115 浙江省杭州市余杭区瓶窑镇双红桥街166号
- 代理机构: 北京高沃律师事务所
- 代理商 刘芳
- 主分类号: H10N52/00
- IPC分类号: H10N52/00 ; H10N50/10 ; H10N50/80 ; H10N52/80 ; H10B61/00 ; G11C11/16 ; G11C11/18
摘要:
本发明公开一种基于单向自旋霍尔磁阻的磁存储器及存储器膜层,所述磁存储器包括层叠结构和两个电极,所述层叠结构包括从下到上依次设置的衬底、存储器膜层和保护层;所述存储器膜层包括非铁磁层和铁磁层;两个所述电极分别位于所述层叠结构的两侧,并与所述非铁磁层和所述铁磁层接触。本发明提供一种单向基于自旋霍尔磁阻的磁存储器,该磁存储器的存储器膜层仅需两层(非铁磁层和铁磁层),结构简单,便于大规模生产,并且可以通过增加存储器膜层的层数实现多态数据读写,有利于存储量的提高。