Invention Publication
- Patent Title: 一种用于制备ArF干法光刻胶的树脂的制备方法
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Application No.: CN202111252257.2Application Date: 2021-10-26
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Publication No.: CN116023580APublication Date: 2023-04-28
- Inventor: 王溯 , 方书农 , 徐森 , 邹琴峰
- Applicant: 上海新阳半导体材料股份有限公司 , 上海芯刻微材料技术有限责任公司
- Applicant Address: 上海市松江区思贤路3600号;
- Assignee: 上海新阳半导体材料股份有限公司,上海芯刻微材料技术有限责任公司
- Current Assignee: 上海新阳半导体材料股份有限公司,上海芯刻微材料技术有限责任公司
- Current Assignee Address: 上海市松江区思贤路3600号;
- Agency: 上海弼兴律师事务所
- Agent 马续红; 陈卓
- Main IPC: C08F220/18
- IPC: C08F220/18 ; C08F230/08 ; C08F232/08 ; C08F220/20 ; G03F7/004
Abstract:
本发明公开了一种用于制备ArF干法光刻胶的树脂的制备方法。该备方法包括如下步骤：将如下以重量份计的40‑47.5份的单体A、以重量份计的0.5‑5份的单体B、以重量份计的0.25‑2.5份的单体C和以重量份计的0.25‑2.5份的单体D在有机溶剂中进行聚合反应，得到所述的树脂。含有本发明的制得的树脂的光刻胶具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点。
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