- 专利标题: 一种有机硅掺杂空穴传输层及钙钛矿太阳能电池制备方法
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申请号: CN202310196206.5申请日: 2023-03-03
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公开(公告)号: CN115884648B公开(公告)日: 2023-05-12
- 发明人: 韩飞 , 蒋海伟 , 王玲玲 , 林媛 , 黄振雄
- 申请人: 江西省科学院能源研究所
- 申请人地址: 江西省南昌市高新技术开发区昌东大道7777号
- 专利权人: 江西省科学院能源研究所
- 当前专利权人: 江西省科学院能源研究所
- 当前专利权人地址: 江西省南昌市高新技术开发区昌东大道7777号
- 代理机构: 南昌丰择知识产权代理事务所
- 代理商 吴称生
- 主分类号: H10K71/12
- IPC分类号: H10K71/12 ; H10K85/40 ; H10K30/40
摘要:
本发明属于钙钛矿太阳能电池技术领域,公开了一种有机硅掺杂空穴传输层及钙钛矿太阳能电池制备方法,将一定量的spiro‑OMeTAD与Li‑TFSI、杂环有机硅分子共同溶于氯苯得到spiro‑OMeTAD溶液,将spiro‑OMeTAD溶液旋涂在基底上,待旋涂结束后,晾干得到有机硅掺杂的spiro‑OMeTAD空穴传输层。本发明创新地采用杂环有机硅分子代替tBP作为空穴掺杂剂以抑制spiro‑OMeTAD和Li‑TFSI相分离,改善spiro‑OMeTAD空穴传输层质量,并进一步组装稳定高效n‑i‑p型钙钛矿太阳能电池。
公开/授权文献
- CN115884648A 一种有机硅掺杂空穴传输层及钙钛矿太阳能电池制备方法 公开/授权日:2023-03-31