摘要:
本发明涉及薄膜应变传感器,具体是一种镂空型四电阻栅式薄膜应变传感器及其制备方法。本发明解决了现有薄膜应变传感器在应用于低应变或微应变测量环境时应变偏小、灵敏度和线性度偏低的问题。一种镂空型四电阻栅式薄膜应变传感器,包括金属镂空基底、环形过渡膜层、环形绝缘膜层、四个扇形镍铬薄膜电阻栅;其中,金属镂空基底包括环形镂空段和延伸设置于环形镂空段外侧面的两个U形镂空段;环形过渡膜层沉积于环形镂空段的上表面;环形绝缘膜层沉积于环形过渡膜层的上表面;四个扇形镍铬薄膜电阻栅均沉积于环形绝缘膜层的上表面。本发明适用于切削加工中的切削力测量。
公开/授权文献
- CN115876071A 一种镂空型四电阻栅式薄膜应变传感器及其制备方法 公开/授权日:2023-03-31