发明授权
- 专利标题: 高集成度的高纯氟气供给系统
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申请号: CN202211353236.4申请日: 2022-11-01
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公开(公告)号: CN115747833B公开(公告)日: 2023-09-22
- 发明人: 张晓明 , 赖甜华 , 林百志 , 傅钟盛 , 邱桂祥 , 刘志强 , 邱玲
- 申请人: 福建德尔科技股份有限公司
- 申请人地址: 福建省龙岩市上杭县蛟洋镇蛟洋工业集中区工业路6号
- 专利权人: 福建德尔科技股份有限公司
- 当前专利权人: 福建德尔科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 福建省龙岩市上杭县蛟洋镇蛟洋工业集中区工业路6号
- 代理机构: 厦门原创专利事务所
- 代理商 闫英敏
- 主分类号: C25B1/245
- IPC分类号: C25B1/245 ; C25B1/02 ; C25B9/19 ; C25B15/08 ; B01J20/04 ; B01J20/30
摘要:
本发明提供了一种高集成度的高纯氟气供给系统,包括:可移动基板(40);集成设置在可移动基板(40)上的电解槽装置(10)以及氟气纯化装置(20),其中,所述可移动基板(40)具有一水平面,所述电解槽装置(10)设置在所述水平面上;所述高集成度的高纯氟气供给系统还进一步包括设置在所述水平面上的两个水平仪(41),所述水平仪(41)分别设置在所述水平面上相互垂直的两条直线上,从而用于判断所述电解槽装置(10)整体是否处于水平。
公开/授权文献
- CN115747833A 高集成度的高纯氟气供给系统 公开/授权日:2023-03-07