发明授权
- 专利标题: 负性光敏树脂及其制备方法与应用
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申请号: CN202211301073.5申请日: 2022-10-24
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公开(公告)号: CN115536841B公开(公告)日: 2023-09-15
- 发明人: 曹志文 , 郑爽 , 吴敏铭 , 王蒙娜
- 申请人: 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
- 申请人地址: 广东省广州市黄埔区连云路388号
- 专利权人: 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
- 当前专利权人: 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
- 当前专利权人地址: 广东省广州市黄埔区连云路388号
- 代理机构: 华进联合专利商标代理有限公司
- 代理商 刘薇
- 主分类号: C08G69/44
- IPC分类号: C08G69/44 ; G03F7/038 ; G03F7/20
摘要:
本发明提供一种负性光敏树脂及其制备方法与应用,所述负性光敏树脂如式(1)所示,其中,‑OR1每次出现,分别独立地选自第一基团和第二基团,第一基团为含羟基的丙烯酸酯类单体的酯化残基,第二基团包括含羟基的多元醇醚类单体的酯化残基和含羟基的多元醇酯类单体的酯化残基中的至少一种;且至少部分‑OR1选自第二基团;#imgabs0#每次出现,分别独立地选自环原子数为6~60的芳香族四酸单体残基,#imgabs1#每次出现,分别独立地选自环原子数为6~60的芳香族二胺单体残基;X1每次出现,分别独立地选自H或碳原子数为1~10的烷基,b选自1~4任一整数,Y选自单键、O或碳原子数为1~10的烷烃亚基;m满足:0<m≤1,n表示聚合度,*表示连接位点。#imgabs2#
公开/授权文献
- CN115536841A 负性光敏树脂及其制备方法与应用 公开/授权日:2022-12-30