发明授权
- 专利标题: 一种近场非均匀采样的直接稀疏成像方法
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申请号: CN202210950511.4申请日: 2022-08-09
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公开(公告)号: CN115356729B公开(公告)日: 2024-10-22
- 发明人: 邢世其 , 宋少秋 , 代大海 , 庞礴 , 李永祯 , 全斯农 , 汪俊澎 , 王漻鲲 , 刘裔瑫
- 申请人: 中国人民解放军国防科技大学
- 申请人地址: 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 专利权人: 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人: 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 代理机构: 国防科技大学专利服务中心
- 代理商 刘芳
- 主分类号: G01S13/90
- IPC分类号: G01S13/90
摘要:
本发明公开了一种近场非均匀采样的直接稀疏成像方法,包括:S1、通过非规则轨迹对线性调频连续波雷达进行扫描,得到目标回波信号;S2、对基带信号进行距离向脉冲压缩,并实现后向投影成像;S3、将图像目标与背景强度之间的差异得到图像阈值,确定目标区域;S4、根据所述目标区域来更新字典矩阵维度,将稀疏重构l0问题转化为松弛为lp正则化问题;S5、将lp范数通过高斯迭代的方法进行求解,得到初始图像#imgabs0#S6、重复步骤S5,实现图像稀疏重构。本发明能在实际成像过程中有效抑制旁瓣泄漏、散斑、相干瓣等现象,其成像结果远优于传统匹配滤波方法,实现了成像增强。
公开/授权文献
- CN115356729A 一种近场非均匀采样的直接稀疏成像方法 公开/授权日:2022-11-18