Invention Publication
CN115232550A 一种低反射涂布组合物及其制备方法
无效 - 驳回
- Patent Title: 一种低反射涂布组合物及其制备方法
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Application No.: CN202210944877.0Application Date: 2022-08-08
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Publication No.: CN115232550APublication Date: 2022-10-25
- Inventor: 曹丽军 , 张聪 , 张丛见 , 仁月璋
- Applicant: 苏州奥美材料科技有限公司
- Applicant Address: 江苏省苏州市苏州高新区华山路158-30号
- Assignee: 苏州奥美材料科技有限公司
- Current Assignee: 苏州奥美材料科技有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省苏州市苏州高新区华山路158-30号
- Agency: 北京品源专利代理有限公司
- Agent 刘二艳
- Main IPC: C09D175/14
- IPC: C09D175/14 ; C09D135/02 ; C09D191/00 ; C09D183/07 ; C09D167/06 ; C09D109/00 ; C09D7/61 ; C08J7/04 ; C08L67/02
Abstract:
本发明公开了一种低反射涂布组合物及其制备方法。本发明的低反射涂布组合物，按重量份计，包含如下组分：树脂30‑80份、纳米二氧化硅颗粒3‑8份、光引发剂3‑6份、助剂3‑8份、溶剂涂布组合物的固含量保持在20‑70wt％构成所需量；所述纳米二氧化硅颗粒的粒径为50‑80nm。本发明的低反射涂布组合物具有优异的低反射性能同时兼具良好力学性能和附着力。
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