发明授权
- 专利标题: 一种振膜及其制备方法、发声装置
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申请号: CN202211027377.7申请日: 2022-08-25
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公开(公告)号: CN115119114B公开(公告)日: 2022-12-02
- 发明人: 刘军 , 宋学田
- 申请人: 共达电声股份有限公司
- 申请人地址: 山东省潍坊市坊子区凤山路68号
- 专利权人: 共达电声股份有限公司
- 当前专利权人: 共达电声股份有限公司
- 当前专利权人地址: 山东省潍坊市坊子区凤山路68号
- 代理机构: 深圳市沈合专利代理事务所
- 代理商 吴京隆
- 主分类号: H04R7/02
- IPC分类号: H04R7/02 ; H04R7/16 ; C08J5/18
摘要:
本申请提供一种振膜及其制备方法、发声装置,所述振膜包括膜主体和所述膜主体表面的致密层,所述膜主体内具有孔状结构,所述致密层具有微孔结构,所述微孔结构与所述孔状结构连通,所述孔状结构的空间占比为20~70%。该振膜定型后的密度为0.4~1.2 g/cm³,与常规振膜材质相比,密度有效降低,大幅降低振动系统重量,有利于声学器件SPL值的提升,并可提升振膜的强度、灵敏度及声学性能。该振膜采用浸入相转化法成型工艺,不同于传统的加热成型方式,降低其性能受温度的影响,提升振膜的稳定性。
公开/授权文献
- CN115119114A 一种振膜及其制备方法、发声装置 公开/授权日:2022-09-27