发明授权
- 专利标题： 一种化学机械抛光头和抛光设备
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申请号： CN202111325470.1申请日： 2021-11-10
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公开(公告)号： CN115106932B公开(公告)日： 2024-03-05
- 发明人: 赵德文 , 孟松林 , 温世乾 , 王宇
- 申请人： 华海清科股份有限公司
- 申请人地址： 天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道11号
- 专利权人： 华海清科股份有限公司
- 当前专利权人： 华海清科股份有限公司
- 当前专利权人地址： 天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道11号
- 主分类号： B24B37/30
- IPC分类号： B24B37/30 ; B24B37/32 ; B24B37/10 ; B24B7/22
摘要：
本发明公开了一种化学机械抛光头和抛光设备，所述化学机械抛光头包括主体部及保持环，所述主体部的底部配置有基座，所述保持环通过连接结构固定于所述基座；所述连接结构包括固定螺钉及调节圈，保持环通过固定螺钉连接于承载头的基座，所述调节圈设置于所述保持环与所述基座之间并位于所述固定螺钉的内侧或外侧；所述调节圈对保持环的作用力产生相对于所述固定螺钉的偏转力矩，使得保持环的底面形成沿半径方向的高度差。
公开/授权文献
- CN115106932A 一种化学机械抛光头和抛光设备 公开/授权日：2022-09-27
